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AKD施胶生产实践中的几个技术问题 被引量:4
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作者 谭安琪 孙宝箎 刘文革 《中华纸业》 CAS 2000年第4期40-40,共1页
关键词 AKD乳液 施胶度 碱性抄纸
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PTA废渣制备不饱和树脂 被引量:2
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作者 刘文阁 杨莲翠 《山东师范大学学报(自然科学版)》 CAS 1995年第4期474-475,共2页
PTA废渣制备不饱和树脂刘文阁,杨莲翠(山东师范大学化工厂,250014,济南;第一作者29岁,男,助理工程师)对苯二甲酸(PTA)是涤纶工业的重要原料,在生产对苯二甲酸的过程中,不可避免地产生一部分废料即PTA废渣... PTA废渣制备不饱和树脂刘文阁,杨莲翠(山东师范大学化工厂,250014,济南;第一作者29岁,男,助理工程师)对苯二甲酸(PTA)是涤纶工业的重要原料,在生产对苯二甲酸的过程中,不可避免地产生一部分废料即PTA废渣,该废渣分为前渣和后渣,由于二者组... 展开更多
关键词 对苯二甲酸 废渣 不饱和树脂 制备 聚酯纤维工业
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碱性抄纸和AKD施胶机理 被引量:3
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作者 谭安琪 孙宝篪 刘文阁 《纸和造纸》 北大核心 2001年第4期48-49,共2页
关键词 造纸 碱性抄纸 AKD施胶机理 碱性施胶
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N-环己基硫代邻苯二甲酰亚胺合成的研究
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作者 孙惠章 王琳 +2 位作者 刘文阁 李玉兰 吴志广 《山东师范大学学报(自然科学版)》 CAS 1998年第4期464-466,共3页
N-环己基硫代邻苯二甲酰亚胺,在橡胶加工过程中有极好的抗焦烧性能,它的生产工艺正向其反应过程和产品的析出在同一体系中完成的方向发展,存在的主要问题是产品纯度较低.该项工作主要探讨了提高产品的收率和纯度的方法.
关键词 橡胶 CTP 合成 生产工艺 防焦剂 邻苯二甲酰亚胺
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Fe_2O_3掩膜的制备研究
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作者 刘瑞兰 杜长英 《山东师范大学学报(自然科学版)》 CAS 1993年第2期88-91,共4页
在制造半导体器件和集成电路时,为确定衬底材料上的图形,必须使用掩膜版。现有的掩膜材料主要有乳胶膜和铬膜。乳胶膜耐磨性差、易沾污且分辨率低;铬膜虽有较好的耐磨性,但铬作为一种金属反光很强,导致图形分辨率降低。另一方面,这两种... 在制造半导体器件和集成电路时,为确定衬底材料上的图形,必须使用掩膜版。现有的掩膜材料主要有乳胶膜和铬膜。乳胶膜耐磨性差、易沾污且分辨率低;铬膜虽有较好的耐磨性,但铬作为一种金属反光很强,导致图形分辨率降低。另一方面,这两种膜都不透明,光刻时图形难以套准。Fe2O3膜是一种优良的掩膜材料,它具有很强的耐磨性和很高的分辨率,针孔少、透明、光刻时图形易对准。 展开更多
关键词 掩膜 氧化铁 制备
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