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机械能助渗硅的研究 被引量:8
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作者 庄光山 陈增清 +2 位作者 徐英 孙毅 孙希泰 《金属热处理》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第9期12-14,共3页
开发研究了机械能助渗硅工艺 ,将渗硅温度由常规工艺的 950~ 1 0 50℃降低到 480~ 540℃。用自己研制的渗硅剂 ,在540℃× 4h得到 60 μm的渗硅层。渗硅层表面硬度为 70 0HV0 .1 ,由外向里 ,逐渐降低到其基体硬度。渗硅层表面为Fe... 开发研究了机械能助渗硅工艺 ,将渗硅温度由常规工艺的 950~ 1 0 50℃降低到 480~ 540℃。用自己研制的渗硅剂 ,在540℃× 4h得到 60 μm的渗硅层。渗硅层表面硬度为 70 0HV0 .1 ,由外向里 ,逐渐降低到其基体硬度。渗硅层表面为Fe3Si相 ,组织致密 ,未发现明显的孔隙 ,能实现无孔渗硅 ,满足耐蚀性要求。渗硅层的硅含量 (质量分数 )为 1 8%左右 ,略高于常规工艺所得渗层的硅含量。机械能助渗硅的渗硅温度低 ,渗硅时间短 ,节能效果十分显著 ,产品质量明显提高 ,且设备投资少 ,原料来源广泛 ,成本低廉 ,将为渗硅在耐蚀性方面的应用提供广阔的前景。 展开更多
关键词 化学热处理 机械能助渗硅 渗层厚度 耐蚀性
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