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EDI内阻高问题在全膜法水处理中的分析及处理
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作者 孙克柱 赵原野 郝少荣 《清洗世界》 CAS 2015年第10期41-46,共6页
通过对电去离子EDI电压高、电流低问题的处理,分析进水水质特别是有机物、硅对EDI膜块的影响。结果表明,当有机物含量>0.5×10-6mg/L、硅含量>0.2×10-6mg/L时,会加速EDI膜块的污染,导致内阻升高、产水水质下降。通过对... 通过对电去离子EDI电压高、电流低问题的处理,分析进水水质特别是有机物、硅对EDI膜块的影响。结果表明,当有机物含量>0.5×10-6mg/L、硅含量>0.2×10-6mg/L时,会加速EDI膜块的污染,导致内阻升高、产水水质下降。通过对反渗透系统的优化调整,改善EDI的进水水质,确保全膜法水处理系统发挥最大能效。 展开更多
关键词 反渗透 电去离子EDI 全膜法水处理:优化
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