脉冲化学镀与化学镀非晶态 Ni-P 合金镀层的微观结构

利用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）及热分析（ＤＴＡ）技术，研究了脉冲化学镀与化学镀非晶态Ｎｉ－Ｐ合金的原子分布函数及晶化过程，得出了两种非晶态合金的微观结构信息（平均原子间距，相应配位原子数和短程有序畴）及各特征温度的晶化激活能。结果表明：脉冲化学镀非晶态Ｎｉ－Ｐ合金的短程有序畴比化学镀的小０．１ｎｍ左右；其晶化初期的激活能比化学镀的高大约２６ｋＪ／ｍｏｌ；与熔体激冷法相比，脉冲化学镀及化学镀所得非晶态Ｎｉ－Ｐ合金的短程有序畴小约一半，且晶化激活能低；最后提出了脉冲化学镀及化学镀非晶态合金的沉积机制。