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谈谈非ODS清洗设备
1
作者
邹熹
《LSI制造与测试》
1997年第4期13-16,共4页
关键词
清洗技术
ODS
清洗设备
无线电工厂
下载PDF
职称材料
氟碳溶剂脱水技术
2
作者
金杏林
《机械工艺师》
CSCD
1989年第7期23-24,共2页
用氟碳溶剂对工件进行脱水,是目前世界上应用比较广泛的新工艺,主要用于硅片、显像管电子枪、光学镜片、陶瓷薄层、玻璃饰品、印刷电路板、精密轴承、机械零件、塑料件等去除表面的水分。特别是真空镀膜(蒸镀、溅镀、离子镀)零件。
关键词
氟碳溶剂
脱水技术
真空镀膜
原文传递
题名
谈谈非ODS清洗设备
1
作者
邹熹
机构
常熟市无线电专用设备厂
出处
《LSI制造与测试》
1997年第4期13-16,共4页
关键词
清洗技术
ODS
清洗设备
无线电工厂
分类号
TN082 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
氟碳溶剂脱水技术
2
作者
金杏林
机构
常熟市无线电专用设备厂
出处
《机械工艺师》
CSCD
1989年第7期23-24,共2页
文摘
用氟碳溶剂对工件进行脱水,是目前世界上应用比较广泛的新工艺,主要用于硅片、显像管电子枪、光学镜片、陶瓷薄层、玻璃饰品、印刷电路板、精密轴承、机械零件、塑料件等去除表面的水分。特别是真空镀膜(蒸镀、溅镀、离子镀)零件。
关键词
氟碳溶剂
脱水技术
真空镀膜
分类号
TN305.8 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
谈谈非ODS清洗设备
邹熹
《LSI制造与测试》
1997
0
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职称材料
2
氟碳溶剂脱水技术
金杏林
《机械工艺师》
CSCD
1989
0
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