无机电致发光材料的制备方法与研究现状

较系统地阐述无机电致发光材料的类型、发光原理及器件构成,以及无机薄膜电致发光材料的制备方法、研究的最新进展及今后的发展趋势。

电致发光用SnO_2:Sb透明导电膜的制备及性能

采用溶胶凝胶法浸渍提拉工艺制备透明导电膜,并考察了Sb3+的掺杂量、膜的厚度、热处理温度对薄膜电阻的影响,以及不同的处理方法对薄膜透过率的影响,制得透明导电膜的电阻率最低可达ρ=16×10-3Ω·cm,薄膜连续性、致密性好,平均透光率达到90%以上。对所制备的透明导电膜用XRD、FT-IR、SEM、TEM进行了分析表征。

掺杂Sb对SnO_2透明导电膜导电性的影响分析

采用溶胶凝胶法制备透明导电膜,并考察了Sb的掺杂量、热处理温度对薄膜方块电阻以及对薄膜透光率的影响。在SnO_2掺杂1．0%(wt)Sb能显著提高薄膜的电导性,制得的透明导电膜表面电阻率最低为ρ=16×10^(-3)Ω·cm,且薄膜的连续性、致密性好,透光率达到90%以上。

制备工艺对SnO_2:Sb透明导电膜性能的影响

将SnCl2.2H2O和SbCl3分别溶解于乙醇中,搅拌至完全溶解,以不同的Sb/Sb混合制备得到溶胶后,分别采用浸渍提拉、喷涂、旋涂工艺制备透明导电膜,并考察了不同制备工艺及热处理温度对膜的厚度、薄膜方块电阻以及对薄膜透光率的影响,运用XRD、SEM、TEM对所制备的透明导电膜进行了分析表征。