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多弧离子镀弧源靶工作条件对氮化钛薄膜中钛液滴的影响 被引量：11
1
作者 胡社军 曾鹏 +3 位作者 谢光荣 黄拿灿 吴起白 严钟得 《真空》 CAS 北大核心 2000年第2期30-32,共3页
本文研究了阴极靶弧电流大小、阴极靶表面热弧斑运动轨迹的电磁场控制、以及阴极靶脉冲弧沉积对多弧离子镀 Ti N薄膜中 Ti液滴的影响。通过优化镀膜参数 ,可以有效地减少 Ti液滴的数量和尺寸 ,提高Ti N薄膜
关键词 多弧离子镀 钛液滴 氮化钛薄膜 弧源靶
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