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共沉淀分离富集-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定高纯氧化钨中痕量金属杂质 被引量:15
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作者 马晓国 梁奕昌 +1 位作者 游卫强 张展霞 《分析化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第9期1097-1100,共4页
提出了以La(OH)3为共沉淀剂,对高纯氧化钨中的痕量金属杂质元素经共沉淀预分离富集后进行ICP-AES测定的分析方法。探讨了影响杂质元素回收率和钨残留量的若干因素,确定了合适的分离富集条件。合成试样和标准样品的测试... 提出了以La(OH)3为共沉淀剂,对高纯氧化钨中的痕量金属杂质元素经共沉淀预分离富集后进行ICP-AES测定的分析方法。探讨了影响杂质元素回收率和钨残留量的若干因素,确定了合适的分离富集条件。合成试样和标准样品的测试结果表明: Bi、Ca、Cd、Co、Cu、Fe、Mg、Mn、Ni、Pb、Sb、Sn、Ti等元素能被定量分离回收,回收率和精密度均令人满意。 展开更多
关键词 共沉淀 氧化钨 杂质 ICP AES 高纯氧化钨 测定
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