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平面栅极碳化硅垂直MOSFET功率器件栅氧可靠性筛选研究进展综述
1
作者
司乙川
《中国集成电路》
2024年第9期16-23,共8页
随着碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)功率器件的广泛应用,其面临的栅极可靠性问题亟待解决,本文回顾了平面栅极碳化硅垂直MOSFET功率器件的栅极结构以及目前业界常用的栅氧筛选方法,介绍了栅氧早期失效物理模型并且讨论了...
随着碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)功率器件的广泛应用,其面临的栅极可靠性问题亟待解决,本文回顾了平面栅极碳化硅垂直MOSFET功率器件的栅极结构以及目前业界常用的栅氧筛选方法,介绍了栅氧早期失效物理模型并且讨论了这些物理模型与筛选方法之间的适用性。
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关键词
碳化硅
功率半导体
栅极氧化层
可靠性筛选
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职称材料
题名
平面栅极碳化硅垂直MOSFET功率器件栅氧可靠性筛选研究进展综述
1
作者
司乙川
机构
广东芯粤能半导体有限公司
出处
《中国集成电路》
2024年第9期16-23,共8页
文摘
随着碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)功率器件的广泛应用,其面临的栅极可靠性问题亟待解决,本文回顾了平面栅极碳化硅垂直MOSFET功率器件的栅极结构以及目前业界常用的栅氧筛选方法,介绍了栅氧早期失效物理模型并且讨论了这些物理模型与筛选方法之间的适用性。
关键词
碳化硅
功率半导体
栅极氧化层
可靠性筛选
Keywords
Silicon Carbide
power semiconductor device
gate oxide
reliability screening
分类号
TN3 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
平面栅极碳化硅垂直MOSFET功率器件栅氧可靠性筛选研究进展综述
司乙川
《中国集成电路》
2024
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