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吸水剖面测井沾污控制与校正处理
被引量:
12
1
作者
何茂东
覃远庆
《测井技术》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第2期113-117,共5页
对吸水剖面测井中沾污形成的原因进行了分析 ,提出降低示踪剂的比强度和注入“冷球”两种控制吸水剖面测井沾污的新工艺。从理论上分析了如何对沾污进行校正 ,建立了沾污校正的解释模型。实际结果表明 ,对沾污进行校正后提高了吸水剖面...
对吸水剖面测井中沾污形成的原因进行了分析 ,提出降低示踪剂的比强度和注入“冷球”两种控制吸水剖面测井沾污的新工艺。从理论上分析了如何对沾污进行校正 ,建立了沾污校正的解释模型。实际结果表明 ,对沾污进行校正后提高了吸水剖面测井的解释精度。
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关键词
吸水剖面
污染防治
示踪剂
测井解释
校正处理
下载PDF
职称材料
井温测井仪与ZDL-S电磁流量计挂接降低测井成本
2
作者
李洪志
《钻采工艺》
CAS
2001年第3期89-90,共2页
在分析、研究ZDL -S电磁流量计的基础上 ,将井温测井仪与较先进的ZDL -S电磁流量计结合起来。经过对井温测井仪电路的改进 ,得到与原来性能不一样的新井温测井仪器 ,节约了成本 ,补充完善了吸水剖面测试技术 。
关键词
井温仪
电磁流量计
吸水剖面
测井仪
电路
原理
百色油田
下载PDF
职称材料
题名
吸水剖面测井沾污控制与校正处理
被引量:
12
1
作者
何茂东
覃远庆
机构
广西
田东
石油
测
录井
分公司
出处
《测井技术》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第2期113-117,共5页
文摘
对吸水剖面测井中沾污形成的原因进行了分析 ,提出降低示踪剂的比强度和注入“冷球”两种控制吸水剖面测井沾污的新工艺。从理论上分析了如何对沾污进行校正 ,建立了沾污校正的解释模型。实际结果表明 ,对沾污进行校正后提高了吸水剖面测井的解释精度。
关键词
吸水剖面
污染防治
示踪剂
测井解释
校正处理
Keywords
water injection profile contamination control tracer interpretation model
分类号
P631.84 [天文地球—地质矿产勘探]
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职称材料
题名
井温测井仪与ZDL-S电磁流量计挂接降低测井成本
2
作者
李洪志
机构
广西田东测录井分公司
出处
《钻采工艺》
CAS
2001年第3期89-90,共2页
文摘
在分析、研究ZDL -S电磁流量计的基础上 ,将井温测井仪与较先进的ZDL -S电磁流量计结合起来。经过对井温测井仪电路的改进 ,得到与原来性能不一样的新井温测井仪器 ,节约了成本 ,补充完善了吸水剖面测试技术 。
关键词
井温仪
电磁流量计
吸水剖面
测井仪
电路
原理
百色油田
分类号
P631.8 [天文地球—地质矿产勘探]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
吸水剖面测井沾污控制与校正处理
何茂东
覃远庆
《测井技术》
CAS
CSCD
北大核心
2000
12
下载PDF
职称材料
2
井温测井仪与ZDL-S电磁流量计挂接降低测井成本
李洪志
《钻采工艺》
CAS
2001
0
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职称材料
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