灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响

采用热丝化学气相沉积方法制备CVD金刚石厚膜,通过改变灯丝间距和增加围挡,获得生长速度7.5μm/h,热导率1028 W/(m·K),结构致密,无孔洞,甚至透红光的CVD金刚石厚膜。