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非晶Nd-Fe薄膜电阻的温度效应与非晶稳定性
被引量:
2
1
作者
吕曼祺
A.Wagendristel
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1993年第5期840-846,共7页
用闪光蒸镀法在77K制备了Nd_xFe_(1-x)(x=0.06-0.80)非晶薄膜,原位测定了其电阻随温度的变化。结果表明:在0.19<x<0.50的成分范围内,非晶膜在室温下是稳定的。在晶化以前,薄膜的比电阻与温度的关系可分为三个阶段,即ρ(T)∝InT,ρ...
用闪光蒸镀法在77K制备了Nd_xFe_(1-x)(x=0.06-0.80)非晶薄膜,原位测定了其电阻随温度的变化。结果表明:在0.19<x<0.50的成分范围内,非晶膜在室温下是稳定的。在晶化以前,薄膜的比电阻与温度的关系可分为三个阶段,即ρ(T)∝InT,ρ(T)∝T^2和ρ(T)∝T。晶化不是在一个固定的温度,而是在一个温度区间发生。
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关键词
金属玻璃
薄膜
电阻
温度
稳定性
原文传递
题名
非晶Nd-Fe薄膜电阻的温度效应与非晶稳定性
被引量:
2
1
作者
吕曼祺
A.Wagendristel
机构
快凝非平衡合金国家重点实验室中国科学院国际材料物理中心
维也纳技术大学应用
物理
研究所
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1993年第5期840-846,共7页
文摘
用闪光蒸镀法在77K制备了Nd_xFe_(1-x)(x=0.06-0.80)非晶薄膜,原位测定了其电阻随温度的变化。结果表明:在0.19<x<0.50的成分范围内,非晶膜在室温下是稳定的。在晶化以前,薄膜的比电阻与温度的关系可分为三个阶段,即ρ(T)∝InT,ρ(T)∝T^2和ρ(T)∝T。晶化不是在一个固定的温度,而是在一个温度区间发生。
关键词
金属玻璃
薄膜
电阻
温度
稳定性
Keywords
Crystallization
Electric resistance
分类号
O484.42 [理学—固体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
非晶Nd-Fe薄膜电阻的温度效应与非晶稳定性
吕曼祺
A.Wagendristel
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1993
2
原文传递
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