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题名一种实用的PECVD腔体检漏工具设计方法
被引量:1
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作者
周梁
韩大伟
孙泉钦
王丹名
李华
陈垚
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机构
成都京东方光电科技有限公司设备技术部
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出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第5期813-818,共6页
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文摘
在TFT-LCD行业,PECVD设备主要用于Array TFT基板工艺中的气相沉积;产生的非金属膜层,为金属电路提供保护、开关作用;在PECVD工艺制程中,腔体设计复杂,反应条件苛刻,产生的制程物会造成产品不良,故需要定期进行PM(pre maintenance预防性维护)。本文以PECVD PM作业为背景,针对设备PM耗时长的问题,制定了改善方法,并着重介绍了腔体检漏工具的设计过程。设计制作了一台国产化检漏工具,成功运用于量产。通过测试,检漏工具3min内达到10mT(1mT=0.133Pa),漏率为0.45mT/min,基本符合设备Spec.(标准)要求。
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关键词
TFT-LCD
PECVD
腔体检漏工具
自主设计
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Keywords
TFT-LCD
PECVD
cavity check up tools
independent design
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分类号
TN141
[电子电信—物理电子学]
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