热分解法制备Bi替石榴石磁光薄膜的静态热磁模拟近似计算

对磁光薄膜进行热磁模拟可以了解影响热磁记录过程的各种因素及这些因素间的相互关系以及它们对写入信息的影响。采用近似计算方法对 Bi、Al替 Dy IG磁光薄膜进行静态热磁模拟 ,得出在居里点写入的情况下写入点半径与写入功率、数值孔径、材料的反射率、材料的热导率及激光波长的关系。该方法为热磁写入过程提供了一种简捷的理论指导。

大尺寸Bi、Al替DyIG磁光膜的均匀性研究

首先应用磁介质中的传输矩阵处理方法建立分层磁光介质材料中耦合法拉第角的计算模型 ,其次用热分解工艺制备出分层Bi、Al替DyIG磁光薄膜。经测试发现分层工艺对膜面各点的法拉第角有极大影响 ,其法拉第角差别在± 0 .5°左右 ,采用加热连续涂布及快速循环退火可使不均匀性大大降低。