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准一维海森堡反铁磁自旋系统的数值研究
被引量:
1
1
作者
陈东芳
《华东船舶工业学院学报》
北大核心
2005年第2期33-35,共3页
利用数值密度矩阵重整化群方法对一种特殊的准一维海森堡反铁磁自旋系统的基态磁性序问题进行研究,计算了单个晶胞的基态能、自旋关联函数以及自旋能隙。研究表明这种准一维海森堡反铁磁链的基态存在磁性长程序,且链上格点间的自旋关联...
利用数值密度矩阵重整化群方法对一种特殊的准一维海森堡反铁磁自旋系统的基态磁性序问题进行研究,计算了单个晶胞的基态能、自旋关联函数以及自旋能隙。研究表明这种准一维海森堡反铁磁链的基态存在磁性长程序,且链上格点间的自旋关联是短程的。
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关键词
准一维海森堡反铁磁自旋系统
密度矩阵重整化群
基态能
自旋关联函数
自旋能隙
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职称材料
磁控溅射碳化硅薄膜生长的热力学讨论(英文)
被引量:
1
2
作者
史兴建
姚合宝
+3 位作者
贺庆丽
王文秀
汪颖梅
何大韧
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2001年第3期273-276,共4页
提出一个用磁控溅射制备碳化硅薄膜的简化热力学模型。首先选出构成β- C3N4,P- C3N4 或 - (C2N2)n-的最可能表面反应 ,然后通过求解这个热力学模型计算了生长参量空间中不同类型 薄膜淀积区域的分界线。这些结果与一些实验结果...
提出一个用磁控溅射制备碳化硅薄膜的简化热力学模型。首先选出构成β- C3N4,P- C3N4 或 - (C2N2)n-的最可能表面反应 ,然后通过求解这个热力学模型计算了生长参量空间中不同类型 薄膜淀积区域的分界线。这些结果与一些实验结果很好地符合。
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关键词
磁控溅射
热力学模型
碳化硅薄膜
薄膜生长
原文传递
一种“类耗散系统”中的“类Ⅴ型阵发”
被引量:
7
3
作者
汪颖梅
王旭明
+3 位作者
陈贺胜
王文秀
赵金刚
何大韧
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期1475-1482,共8页
一类不连续不可逆保面积映象可以展示类似耗散的行为 ,因此可称其为“类耗散系统” .在一种类耗散系统中观察到了椭圆周期轨道及其周围的椭圆岛与映象不连续边界碰撞而消失的现象 .周期轨道消失后 ,经过一系列过渡椭圆周期轨道之后 ,系...
一类不连续不可逆保面积映象可以展示类似耗散的行为 ,因此可称其为“类耗散系统” .在一种类耗散系统中观察到了椭圆周期轨道及其周围的椭圆岛与映象不连续边界碰撞而消失的现象 .周期轨道消失后 ,经过一系列过渡椭圆周期轨道之后 ,系统的行为由一个混沌类吸引子主导 .在混沌类吸引子刚刚出现时 ,混沌时间序列呈现层流相与湍流相的无规交替 .这一切都与不连续耗散系统中发生的Ⅴ型阵发的相应性质十分相似 ,因此可称为“类Ⅴ型阵发” .然而 ,当混沌类吸引子刚刚出现时 ,仅可以找到最后一个过渡椭圆岛的“遗迹” ,并不存在它的“鬼魂” ,因此类Ⅴ型阵发不遵从Ⅴ型阵发的特征标度规律 .反之 ,混沌类吸引子的鬼魂却存在于最后一个过渡椭圆周期轨道的类瞬态过程中 ,因此在类Ⅴ型阵发导致混沌运动的临界点之前 ,由此“类瞬态混沌奇异集”中逃逸的规律就成为标志这一种临界现象的标度律 .这与Ⅴ型阵发又根本不同 .
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关键词
类耗散系统
类耗散性
类混沌吸引子
类V型阵发
混沌运动
原文传递
题名
准一维海森堡反铁磁自旋系统的数值研究
被引量:
1
1
作者
陈东芳
机构
扬州大学复杂性科学研究中心
出处
《华东船舶工业学院学报》
北大核心
2005年第2期33-35,共3页
文摘
利用数值密度矩阵重整化群方法对一种特殊的准一维海森堡反铁磁自旋系统的基态磁性序问题进行研究,计算了单个晶胞的基态能、自旋关联函数以及自旋能隙。研究表明这种准一维海森堡反铁磁链的基态存在磁性长程序,且链上格点间的自旋关联是短程的。
关键词
准一维海森堡反铁磁自旋系统
密度矩阵重整化群
基态能
自旋关联函数
自旋能隙
Keywords
antiferromagnetic spin system
density matrix renormalization groups
ground energy
spin correlation function
spin gap
分类号
O441 [理学—电磁学]
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职称材料
题名
磁控溅射碳化硅薄膜生长的热力学讨论(英文)
被引量:
1
2
作者
史兴建
姚合宝
贺庆丽
王文秀
汪颖梅
何大韧
机构
扬州大学复杂性科学研究中心
西北
大学
物理系
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2001年第3期273-276,共4页
基金
Natural Science Foundation of Shanxi Province
China State Key Projects of Basic Research (G1999064509).
文摘
提出一个用磁控溅射制备碳化硅薄膜的简化热力学模型。首先选出构成β- C3N4,P- C3N4 或 - (C2N2)n-的最可能表面反应 ,然后通过求解这个热力学模型计算了生长参量空间中不同类型 薄膜淀积区域的分界线。这些结果与一些实验结果很好地符合。
关键词
磁控溅射
热力学模型
碳化硅薄膜
薄膜生长
Keywords
β-C3N4
magnetron sputtering
thermodynamic model
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
O484.1 [理学—固体物理]
原文传递
题名
一种“类耗散系统”中的“类Ⅴ型阵发”
被引量:
7
3
作者
汪颖梅
王旭明
陈贺胜
王文秀
赵金刚
何大韧
机构
扬州大学复杂性科学研究中心
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期1475-1482,共8页
基金
国家自然科学基金 (批准号 :19975 0 3 9)资助的课题
文摘
一类不连续不可逆保面积映象可以展示类似耗散的行为 ,因此可称其为“类耗散系统” .在一种类耗散系统中观察到了椭圆周期轨道及其周围的椭圆岛与映象不连续边界碰撞而消失的现象 .周期轨道消失后 ,经过一系列过渡椭圆周期轨道之后 ,系统的行为由一个混沌类吸引子主导 .在混沌类吸引子刚刚出现时 ,混沌时间序列呈现层流相与湍流相的无规交替 .这一切都与不连续耗散系统中发生的Ⅴ型阵发的相应性质十分相似 ,因此可称为“类Ⅴ型阵发” .然而 ,当混沌类吸引子刚刚出现时 ,仅可以找到最后一个过渡椭圆岛的“遗迹” ,并不存在它的“鬼魂” ,因此类Ⅴ型阵发不遵从Ⅴ型阵发的特征标度规律 .反之 ,混沌类吸引子的鬼魂却存在于最后一个过渡椭圆周期轨道的类瞬态过程中 ,因此在类Ⅴ型阵发导致混沌运动的临界点之前 ,由此“类瞬态混沌奇异集”中逃逸的规律就成为标志这一种临界现象的标度律 .这与Ⅴ型阵发又根本不同 .
关键词
类耗散系统
类耗散性
类混沌吸引子
类V型阵发
混沌运动
Keywords
quasi dissipativity, chaotic quasi attractor,type Ⅴ quasi intermittency
分类号
O415.3 [理学—理论物理]
O415.5 [理学—理论物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
准一维海森堡反铁磁自旋系统的数值研究
陈东芳
《华东船舶工业学院学报》
北大核心
2005
1
下载PDF
职称材料
2
磁控溅射碳化硅薄膜生长的热力学讨论(英文)
史兴建
姚合宝
贺庆丽
王文秀
汪颖梅
何大韧
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2001
1
原文传递
3
一种“类耗散系统”中的“类Ⅴ型阵发”
汪颖梅
王旭明
陈贺胜
王文秀
赵金刚
何大韧
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
7
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