磁致涡流效应对化成铝箔Al_2O_3-TiO_2复合膜结构及性能的影响

以TiCl_4为前驱体溶液,通过磁场辅助电沉积法在腐蚀箔表面形成具有高介电常数的Al_2O_3-TiO_2复合氧化膜。系统研究了磁致涡流效应(MHD效应,Magnetohydrodynamics)对电解液中离子扩散行为及Al_2O_3-TiO_2复合氧化膜结构与性能的影响规律。采用XRD能谱、扫描电镜SEM以及EDS能谱等手段对氧化膜晶相、表面/截面形貌以及Ti元素分布进行表征。结果表明,随着磁感应强度B的增强,电解液中Ti4+向箔面及蚀孔内的扩散速率增大,复合膜层中锐钛矿型TiO_2含量提高,且其在箔面及蚀孔内部分布均一性提升。另外,氧化膜阳极升压曲线、Tafel极化曲线及交流阻抗曲线的分析结果表明,MHD效应提高了复合氧化膜介电常数,减少了阳极氧化阶段的形成电量,对应的化成箔比电容增大至58.29μF/cm2,较之无MHD制备的Al_2O_3-TiO_2化成箔,其形成电量减少了24.6%,比电容增加了10.1%。

磁致涡流效应对阳极铝箔形貌及比电容的影响

针对盐酸-硫酸体系,通过耦合外加磁场对铝箔进行直流电化学腐蚀,系统研究磁致涡流效应(MagnetoHydrodynamics,MHD效应)对铝箔电化学行为、界面行为以及质量传递的影响。采用X射线衍射(XRD)、低温氮气吸附、扫描电镜(SEM)等手段对腐蚀箔样品进行表征。同时,通过计时电位法、极化曲线、循环伏安法、电化学阻抗法研究MHD效应对铝箔电化学性能的影响。结果表明,MHD效应能够抑制氧化膜的生长,增加铝箔表面Cl-的吸附量,减小扩散层厚度,强化Cl-/Al3+向孔内/孔外的传质,减小电解液中离子传递阻力。通过引入磁场,明显提高了腐蚀箔的蚀孔密度、平均孔径以及平均蚀孔深度的均一性,继而增大了阳极电子铝箔的比电容。

铝阳极箔点蚀扩面机制及影响因素的研究进展

概述了铝阳极箔点蚀萌生的机制研究,阐述了直流电解腐蚀过程中高纯铝的性质(微量元素和立方织构)、电解液参数(氯离子浓度、硫酸根离子浓度、温度和缓蚀剂)以及外加极化电流等因素对铝箔点蚀萌生、蚀孔生长及增容的影响研究进展。

电极箔生产中腐蚀导电石墨板坼封工艺技术的节电改造

1 企业概况 扬州宏远电子有限公司是由扬州升达集团和广东宏远集团共同投资兴建的合资企业，主要产品是铝电解电容器、低压电极箔。公司占地面积14万m^2，拥有总资产23亿元，工艺流程全部自行研发，产品具有比容高、抗拉强度好、离散度小、接触电阻低、漏电流小等优点。产品出口英国、法国、韩国、印度、阿根廷等国家和地区，现已发展成为国内产量最大、质量最好的中低压电极箔生产企业。