H^+辐照对不锈钢基体上涂覆W膜的微观研究

对奥氏体不锈钢基体上采用离子束混合技术进行不同厚度的钨膜沉积 ,沉积后的试样进行了H+注入前后的XRD和SEM微观分析 ,研究了H+辐照对W膜的晶体结构和形貌的影响。结果表明 ,沉积的W膜基本上是非晶的 ,还出现了由于污染造成的钨的氧化物。氢离子的辐照模拟结果表明 ,少量晶化的W向非晶化转变 ,污染的氧化物被择优溅射掉。H+轰击对W膜表面形貌的影响不大 ,它仍然致密、均匀、完整且无明显损伤。

H^+辐照前后W涂层表面的XPS分析

对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+ 辐照前后的XPS分析 ,研究了H+ 辐照对W的结合能的影响。分析结果表明 ,沉积的W膜中除了单质钨外 ,还有部分钨的氧化物 ,H+ 辐照结果表明 ,H+的辐照使钨的结合能向低能方向偏移 ;钨的氧化物有所减少 。