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TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征
1
作者
秦艳涛
吴敏
+2 位作者
张俊颉
孙岳明
杨朝晖
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期220-222,196,共4页
为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征。
关键词
四氨基酞菁钴
电沉积
循环伏安
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职称材料
题名
TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征
1
作者
秦艳涛
吴敏
张俊颉
孙岳明
杨朝晖
机构
东南大学化学化工
学院
新安江职业技禾学院
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期220-222,196,共4页
基金
江苏省高技术研究基金资助项目(BG2005034)
文摘
为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征。
关键词
四氨基酞菁钴
电沉积
循环伏安
Keywords
cobalt tetraaminophthlocyanine
electrodeposition
CV
分类号
O649.5 [理学—物理化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征
秦艳涛
吴敏
张俊颉
孙岳明
杨朝晖
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008
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