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等离子体处理装置和高频电力供给装置
1
作者 无 《表面技术》 EI CAS CSCD 2007年第6期47-47,共1页
本发明的等离子体处理装置包括：处理容器，其内部可减压；第1电极，配置在所述处理容器内；处理气体供给部件，用于将处理气体供给到所述处理的容器内；高频电源部，输出具有VHF带频率的高频电力；匹配器与所述高频电源部和所述第1电... 本发明的等离子体处理装置包括：处理容器，其内部可减压；第1电极，配置在所述处理容器内；处理气体供给部件，用于将处理气体供给到所述处理的容器内；高频电源部，输出具有VHF带频率的高频电力；匹配器与所述高频电源部和所述第1电极电连接，获得阻抗的匹配：以及传输线路，从所述高频电源部至所述匹配器传输所述高频电力。在所述处理容器内可配置被处理基板， 展开更多
关键词 等离子体处理 供给装置 高频电力 高频电源 传输线路 匹配器 可配置 容器
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