超高压铝电解电容器用铝箔腐蚀工艺的研究

通过调整腐蚀溶液中[SO_(4)^(2-)]:[Al^(3+)]比值,确保腐蚀长度,调整电流密度、腐蚀时间、温度等参数,得到800v高压电极箔的最佳发孔和扩孔工艺;实验表明相同条件下当比值为20%H_(2)SO_(4)+0.9%Al^(3+)时比容值最高,800Vf产品的最小极限孔径在1.2μm左右。

工业纯铝中夹渣物的来源及检测分析

工业纯铝棒材产品内部夹渣物,采用扫描电镜观察夹渣物形态并使用能谱分析夹渣物成分,根据夹渣物的可能原因做比对分析,确认夹渣物的产生原因并提出管控及预防措施。

21vf高比容低压腐蚀箔的制备方法

在21vf高比容低压腐蚀箔制备过程中,通过在低压腐蚀工艺中引入硫酸、草酸、及A物质等添加剂,研究单一添加剂和混合添加剂对铝电解电容器用低压腐蚀箔比电容和保持率的影响。结果表明:腐蚀液的组成是影响21vf腐蚀箔性能的主要因素。在其它条件不变的情况下,在二次腐蚀溶液中加入2-8%H_(2)SO_(4)硫酸、5g/L~10g/L草酸、8-12ppmA混合添加剂时,可以使21vf的比容达到82μF/cm^(2),保持率在59%以上。本文简要介绍了此方法的实验方法及工艺流程,实验结果以供参考。