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LB膜抗蚀层在光刻中的应用
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作者 顾宁 鲁武 +4 位作者 陆祖宏 于向东 彭力 张仲毅 刘永宽 《微电子技术》 1996年第4期23-27,共5页
本文概述了LB超薄抗蚀层用于光刻研究的历史及现状,指出:发展实用化的LB超薄抗蚀层技术对于微电子工业中深亚微米乃至纳米水平的微细加工具有重要的意义。
关键词 超薄抗蚀层 光刻 LB膜 IC 半导体器件
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