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193nm浸入式光刻技术独树一帜 被引量:8
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作者 翁寿松 《电子工业专用设备》 2005年第7期11-14,共4页
介绍了193nm浸入式光刻机和193nm光刻胶的最新发展动态以及下一代193nm浸入式光刻机。
关键词 浸入式光刻技术 196nm光刻机 193nm光刻胶
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