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微波方法制备(100)晶面取向的金刚石薄膜 被引量：2
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作者 顾长志 金曾孙 +3 位作者 吕宪义 邹广田 坂本幸弘 高谷松文 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第6期647-651,共5页
采用MWPCVD制备金刚石膜的方法 ,以甲烷和一氧化碳为碳源气体 ,在适当的衬底温度与反应气体配比条件下 ,通过使衬底匀速转动 ,合成出具有 (10 0 )晶面取向的均匀生长的金刚石薄膜 ,在优化的工艺条件下这种定向金刚石膜的生长与单晶硅衬... 采用MWPCVD制备金刚石膜的方法 ,以甲烷和一氧化碳为碳源气体 ,在适当的衬底温度与反应气体配比条件下 ,通过使衬底匀速转动 ,合成出具有 (10 0 )晶面取向的均匀生长的金刚石薄膜 ,在优化的工艺条件下这种定向金刚石膜的生长与单晶硅衬底的类型没有明显的直接关系 . 展开更多
关键词 金刚石膜 定向生长 MWPCVD 微波法 制备
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