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光CVD法制作电子薄膜材料
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作者 藤田静雄 藤田茂夫 郭秀芬 《压电与声光》 CSCD 北大核心 1990年第1期70-76,共7页
在近几年来的电子器件制备中,对三维的各方向均提出了微细化和在平面内均匀性等高精度和优良的可控性要求.为此,对新的薄膜制法和加工方法进行了广泛的研究,为新型电子器件的实现做出了很大的贡献.最近几年,在薄膜制备中采用光能的方法... 在近几年来的电子器件制备中,对三维的各方向均提出了微细化和在平面内均匀性等高精度和优良的可控性要求.为此,对新的薄膜制法和加工方法进行了广泛的研究,为新型电子器件的实现做出了很大的贡献.最近几年,在薄膜制备中采用光能的方法引起了人们的关注. 展开更多
关键词 光 CVD法 电子薄膜 电子材料
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