连续SiC纤维表面铂涂层的制备及抗氧化性研究

采用金属有机化合物化学气相沉积法(MOCVD)在连续SiC纤维表面沉积了约0.8μm厚的Pt涂层,用扫描电镜对涂层的形貌进行观察,用EDS能谱和XRD对涂层的成分进行了分析,并对沉积涂层后的纤维在不同温度和时间下的抗氧化性能进行了测试。结果表明,制备得到的铂涂层光滑致密,与纤维结合牢固,有效弥补了纤维表面缺陷;对沉积涂层后的纤维进行力学表征和抗氧化测试,发现铂涂层不仅增加了SiC纤维的抗拉强度,而且经700~1400℃氧化1h后纤维的抗氧化性能大幅提高。

纯银溅射靶材的制备、微观结构及溅射成膜研究

银薄膜作为高新技术领域极具潜力的新材料,在现代工业中得到了广泛的应用。以银靶为源材料的磁控溅射已成为制备银薄膜的常用方法。本研究比较了冷轧状态和退火状态下Ag靶的溅射性能,探讨了Ag靶与Ag薄膜之间的关系。结果表明:冷轧变形量为83.33%后进行600℃退火可以有效提高Ag{110}的织构密度。冷轧态和退火态Ag靶具有相似的沉积速率。两种Ag薄膜的电阻率均随溅射时间的延长而降低。在溅射时间相同的情况下,退火态Ag靶溅射的Ag薄膜电阻率低于冷轧态Ag靶溅射的Ag薄膜。退火态Ag靶组织均匀,溅射后溅射跑道较浅。

铑−单膦催化剂在不对称氢化反应中的研究进展

不对称氢化反应凭借良好的原子经济性、立体选择性和环境效益等优点在有机合成化学领域占有重要地位.不对称催化氢化反应研究的核心内容是手性配体和手性催化剂,其中过渡金属中的铑表现出催化活性高、化学性质稳定等优异性能,以及手性单齿膦配体具有合成方法简便、原料易得等优点,使得铑−单膦催化剂在不对称氢化反应中得到广泛应用.基于此,开发新型、催化效率高的手性单膦配体及铑催化剂仍是一个不断发展的领域.以铑催化不对称氢化反应为核心,手性单齿膦配体的发展为主线,作者详细介绍了反应过程中涉及到的手性单齿膦配体、底物结构、反应条件和产物的对映选择性等,以期对铑−单膦催化剂在不对称氢化反应中的应用有深入理解.

新型吡啶甲酸类铱磷光材料的合成、晶体结构及性能

铱磷光材料由于发光效率高、热稳定性好、发光颜色易调控等优点,成为目前综合性能最优异的有机电致发光材料。Ir(C^N)2(L^X)型铱磷光配合物是最为重要的一类铱磷光发光材料,通过调控配体的化学结构,如引入供/吸电子基团、增大共轭程度等来达到改变发光颜色、发射波长和性能等目的。本工作从辅助配体着手,选用N^O型的吡啶甲酸衍生物为辅助配体,通过不同性质的基团对其结构进行调控;分别以3-三氟甲基-2-吡啶甲酸(Tricid)和异喹啉-1-甲酸(Qicid)为辅助配体,以2-(2,4-二氟苯基)-5-甲基吡啶(Medfppy)为主配体,设计合成出两种吡啶甲酸类铱磷光材料Ir1和Ir2。通过核磁共振谱、质谱和单晶X射线衍射等测试手段表征了它们的组成和化学结构,并确定了Ir1和Ir2的晶体结构,Ir1为单斜晶系,P2_(1)/c空间群;Ir2为三斜晶系,P-1空间群,均呈现出稍微扭曲的八面体构型;通过热重分析测试了材料的热稳定性,Ir1和Ir2的热分解温度分别为319℃和364℃;通过紫外-可见光谱和光致发光光谱研究了材料的光物理性能,Ir1和Ir2在二氯甲烷溶液中的最大发射波长分别为582 nm和607 nm;通过循环伏安法测试了材料的电化学性质,并计算得到材料的HOMO-LUMO能级。研究结果表明:与吡啶甲酸(Pic)上引入吸电子基团(-CF_(3))相比,增大共轭程度对铱磷光材料的发射波长作用程度较大;增大共轭程度不仅使配合物的最大发射波长产生了红移,还提高了材料的热稳定性,对设计新型的铱磷光材料具有一定的借鉴意义。

一种红光铱配合物的合成、晶体结构及性能

以1-苯基异喹啉(piq)为主配体,以3-甲基-2-吡啶甲酸(mecid)为辅助配体合成了一种铱(Ⅲ)配合物Ir(piq)2(mecid)。采用元素分析、红外光谱、核磁共振谱分析和单晶X射线衍射对其化学组成和结构进行了表征。采用热失重(TGA)曲线分析了其热稳定性质,热分解温度为325℃。采用紫外-可见光谱和光致发光光谱对其光物理性质进行了分析。结果表明,化学组成为C_(37)H_(26)IrN_(3)O_(2),属于三斜晶系,P1/n空间群。晶胞参数为a=8.3130(4)nm,b=11.4866(5)nm,c=15.3737(7)nm,α=75.726(2)°,β=83.005(2)°,γ=88.785(2)°,V=1.4120(11)nm^(3),Z=2。光物理性质显示最大发射波长为618 nm,为红色发射的铱磷光配合物。

磁控溅射后的铂靶表面形貌分析

通过分析磁控溅射沉积镀膜后的靶材表面形貌及金相组织,探究了磁控溅射过程中靶材表面的变化趋势。采用场发射扫描电镜观察了磁控溅射后铂靶材表面形貌,采用共聚焦显微镜观察了靶材金相组织。结果表明,靶材的溅射表面形貌呈现规律性变化。靶材中心部位因靶原子反向沉积(反溅)而呈现松散的团簇状聚集形貌;在靶材溅射刻蚀程度较高的部位则呈现明显的凹凸不平状态;随溅射刻蚀程度逐渐降低,靶材边缘处呈现较为平缓的凹凸形貌。此外,靶材溅射面因获得入射离子的部分能量而造成局部升温,晶粒再结晶生长,导致靶材溅射表面的晶粒尺寸要大于靶材芯部。