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高迁移率的钛掺杂氧化铟薄膜在晶硅/非晶硅异质结电池上的应用研究 被引量:1
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作者 黄金 鲍少娟 +5 位作者 鲁林峰 杨骥 白焱辉 张娟 高勇 王继磊 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第3期848-852,共5页
采用钛掺杂氧化铟旋转靶制备透明导电薄膜应用在晶硅/非晶硅异质结电池上。在不同氧含量下,研究钛掺杂氧化铟薄膜(T100薄膜)的光电性能,同时对比分析ITO薄膜。在电镜下T100薄膜呈现出柱状结构,并且展示出优异的光学性能。T100薄膜最大... 采用钛掺杂氧化铟旋转靶制备透明导电薄膜应用在晶硅/非晶硅异质结电池上。在不同氧含量下,研究钛掺杂氧化铟薄膜(T100薄膜)的光电性能,同时对比分析ITO薄膜。在电镜下T100薄膜呈现出柱状结构,并且展示出优异的光学性能。T100薄膜最大载流子迁移率可以达到75.6 cm~2·(V·s)^(-1)。相比于ITO薄膜,T100薄膜具有优异的电学传导和透光率,因此在异质结电池量产线上电池转换效率可以实现0.26%的提升。 展开更多
关键词 钛掺杂氧化铟 透明导电薄膜 异质结电池
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