液晶显示器的工艺设备和检测仪器

液晶显示器(LCD)的市场销售额正以年增长率30％的速度发展,将成为电子工业的重大产业部门。本文根据LCD制造工艺要求,介绍LCD制造设备和检测仪器的现状和发展动向。

CD—1型(48/12)程控交换机稳压电源

本文介绍了为满足程控用户交换机各种使用要求而研制的稳压电源的工作原理、技术指标和测试结果。

DB—5型光栅扫描电子束曝光机真空系统

本文介绍了我国自行研制的第一台生产实用型光栅扫描电子束曝光机的真空系统,包括系统设计、分子泵与离子泵的应用、全系统泵阀的可编程自动控制,以及为改善系统性能采取的一些措施。

RT—1型热处理炉的研制

本文介绍了一种连续式网带传送热处理炉的研制,对其主要技术指标、设计要点、控温方式以及提高整机性能做了详细的论述。同时还提供了RT—1型热处理炉与箱式炉对压敏电阻进行热处理的技术参数对比,证明了该设备对提高电子陶瓷元器件一致性和可靠度的重要性。

国外半导体专用设备发展趋势

目前集成电路已由16M DRAM向64M DRAM、256M DRAM的方向发展,因此图形线宽逐步缩小,1984年1M DRAM的图形线宽为1.2μm;1985年4M DRAM的图形线宽为0.8μm;1987年16M DRAM的图形线宽为0.5μm;1990年日本日立公司又首先制成64M DRAM,其图形线宽为0.3μm;预计1995年将推出256M

TY—3型辊道推板窑的研制

本文叙述了一种专为永磁铁氧体烧成的辊道推板窑的设计,主要包括设备的技术要求、热工设计、生产能力计算及现场使用效果。实践证明:TY—3型全自动辊道推板窑是一种性能优异的永磁铁氧体烧成设备。