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VIPVS加速7 nm工艺模拟版图设计 被引量:1
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作者 李璇 李媛 +5 位作者 祁景凤 冯磊 翟鲁坤 钱颖琪 张雯焘 邵婉新 《电子技术应用》 2018年第8期17-19,30,共4页
在格芯~?基于7 nm技术研发高速Serdes IP过程中,版图设计的复杂度日益增加。其中复杂DRC(Design Rule Check)验证和复杂MPT(Multi Patterning)方法为整个设计流程带来新的挑战。因此,一个能够应对这些挑战的版图设计流程非常重要,尤其是... 在格芯~?基于7 nm技术研发高速Serdes IP过程中,版图设计的复杂度日益增加。其中复杂DRC(Design Rule Check)验证和复杂MPT(Multi Patterning)方法为整个设计流程带来新的挑战。因此,一个能够应对这些挑战的版图设计流程非常重要,尤其是对EDA工具新功能的应用,例如:Cadence~? Virtuoso Interactive Physical Verification System(VIPVS~?)工具。VIPVS能够实现实时sign-off规格的DRC验证,缩短版图验证迭代过程,为多重图案上色提供高效的方法。介绍格芯高速Serdes版图团队如何使用VIPVS(主要讨论高效DRC验证和多重图案上色功能)进行基于格芯7 nm Finfet工艺的高速Serdes芯片版图设计。 展开更多
关键词 实时设计规则检查 对多重图案上色 自对准双重图案/自对准四重图案
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