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闭磁场非平衡磁控溅射在光学薄膜中的应用
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作者 陈楠 贾克辉 卜轶坤 《光机电信息》 2007年第9期34-37,共4页
介绍了一种制备高质量光学薄膜的新型闭磁场磁控溅射技术。该技术具有高束流密度和低内应力,可以在高沉积速率条件下制备性能极佳的精密光学薄膜。采用精密的单轴圆鼓基板系统,可显著提高批量镀膜的能力。
关键词 闭磁场 光学薄膜 磁控溅射
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