闭磁场非平衡磁控溅射在光学薄膜中的应用

介绍了一种制备高质量光学薄膜的新型闭磁场磁控溅射技术。该技术具有高束流密度和低内应力,可以在高沉积速率条件下制备性能极佳的精密光学薄膜。采用精密的单轴圆鼓基板系统,可显著提高批量镀膜的能力。