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微结构表面润湿模式转换的实验研究 被引量:1
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作者 袁润 李保家 +3 位作者 周明 李健 叶霞 蔡兰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期1958-1960,共3页
采用等离子体刻蚀技术及表面硅烷化处理制备了一组硅基方柱阵列样品,测量了其表面与水的表观接触角,简要分析了表面微结构几何参数对润湿模式转换的影响,探讨了方柱阵列微结构表面发生润湿模式转换的原因。结果表明,微结构表面润湿模式... 采用等离子体刻蚀技术及表面硅烷化处理制备了一组硅基方柱阵列样品,测量了其表面与水的表观接触角,简要分析了表面微结构几何参数对润湿模式转换的影响,探讨了方柱阵列微结构表面发生润湿模式转换的原因。结果表明,微结构表面润湿模式转换受微结构几何参数的影响,原因是微结构几何参数的改变会引起表面上的液滴能量的变化,最终导致液滴的润湿状态发生变化。 展开更多
关键词 微结构表面 润湿模式转换 表观接触角 方柱阵列
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飞秒激光烧蚀Ag膜的研究 被引量:3
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作者 吴小麟 高传玉 +1 位作者 周明 张伟 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第B02期179-182,共4页
研究飞秒激光烧蚀Ag膜表面,采用扫描电镜(SEM)观测其表面烧蚀形貌,发现烧蚀点大致分为3个区域,烧蚀面积随着脉冲能量的增大而增大,脉冲数的增加而增大,但当脉冲数达到一定值后烧蚀面积变化不大。改变脉冲数在烧蚀点得到了周期为650和15... 研究飞秒激光烧蚀Ag膜表面,采用扫描电镜(SEM)观测其表面烧蚀形貌,发现烧蚀点大致分为3个区域,烧蚀面积随着脉冲能量的增大而增大,脉冲数的增加而增大,但当脉冲数达到一定值后烧蚀面积变化不大。改变脉冲数在烧蚀点得到了周期为650和150nm的长短周期条纹结构。根据烧蚀区域面积与脉冲能量的关系算出单脉冲与多脉冲的烧蚀阈值,Ag膜的单脉冲烧蚀阈值为0.189J/cm2。通过烧蚀点的累计能量和激光脉冲个数计算出Ag膜的多脉冲累计因子s=0.785。 展开更多
关键词 飞秒激光 周期条纹结构 烧蚀阈值 多脉冲累计因子
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飞秒激光烧蚀制备纳米结构ITO薄膜 被引量:2
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作者 陈谦 周明 +2 位作者 黄宗明 李健 蔡兰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期158-160,共3页
利用飞秒激光烧蚀ITO与ZnO双层薄膜的方法,制备具有大面积表面纳米结构的ITO薄膜。在激光频率1kHz、脉冲宽度130fs、波长775nm、能量20μJ时,在ITO薄膜表面,获得了大面积的周期为176nm左右的周期性平行条纹结构。通过改变激光能量,研究... 利用飞秒激光烧蚀ITO与ZnO双层薄膜的方法,制备具有大面积表面纳米结构的ITO薄膜。在激光频率1kHz、脉冲宽度130fs、波长775nm、能量20μJ时,在ITO薄膜表面,获得了大面积的周期为176nm左右的周期性平行条纹结构。通过改变激光能量,研究了大面积纳米结构与激光能量之间的关系,发现这种大面积纳米结构是在激光能量小于材料烧蚀阈值的条件下形成的。 展开更多
关键词 ITO薄膜 纳米结构 飞秒激光 烧蚀
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H_2气氛退火处理温度对磁控溅射ZnO薄膜光电性能的影响
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作者 马明 高传玉 +2 位作者 周明 李保家 李浩华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第15期2268-2270,2275,共4页
在室温下,采用直流磁控溅射法,以载玻片作为衬底,淀积出ZnO薄膜。在常压H2气氛中,以不同温度对样品进行退火处理。结果表明,在退火温度为500℃时,样品具有最佳综合光电性能,其在360~960nm波长范围内的平均透光率为76.35%,方块电阻为6.3... 在室温下,采用直流磁控溅射法,以载玻片作为衬底,淀积出ZnO薄膜。在常压H2气氛中,以不同温度对样品进行退火处理。结果表明,在退火温度为500℃时,样品具有最佳综合光电性能,其在360~960nm波长范围内的平均透光率为76.35%,方块电阻为6.3kΩ/□。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 退火温度 透光率 方块电阻
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飞秒激光微构造硅表面镀AZO膜的形貌及其光学吸收性能 被引量:2
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作者 唐万羿 周明 +2 位作者 任乃飞 李保家 张伟 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期143-147,共5页
在SF6气氛中使用飞秒激光对单晶硅表面进行辐照,制造了尖峰状的微结构表面,随后在该表面上通过磁控溅射了一层掺铝氧化锌(AZO)薄膜。考察了样品镀膜前后的表面微结构和光学吸收性能。结果表明,表面尖峰尺寸和间隙会受到激光能量密度的影... 在SF6气氛中使用飞秒激光对单晶硅表面进行辐照,制造了尖峰状的微结构表面,随后在该表面上通过磁控溅射了一层掺铝氧化锌(AZO)薄膜。考察了样品镀膜前后的表面微结构和光学吸收性能。结果表明,表面尖峰尺寸和间隙会受到激光能量密度的影响,光在这些尖峰中的多次反射是微构造硅在200~1000nm波段具有良好光学吸收性能的主要原因。镀膜后,粗糙表面对入射光的散射和AZO薄膜的增透作用增强了样品在可见光区域(400~800nm)的光学吸收性能,AZO薄膜对红外光的高反射导致样品反射峰的红移。 展开更多
关键词 薄膜 微构造硅 磁控溅射 光学吸收
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