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高纯硅烷的制取
被引量:
1
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作者
张俊福
《低温与特气》
CAS
1988年第4期17-23,共7页
一、前言 硅烷是发展电子工业所必需的特种气体之一,它广泛应用于集成电路和半导体器件中的掩膜工艺(沉积二氧化硅薄膜,氮化硅薄膜、磷硅玻璃等)、钝化工艺(淀积氮化硅薄膜)和介质隔离工艺(生长多晶硅栅等)。在微波器件中,进一步结...
一、前言 硅烷是发展电子工业所必需的特种气体之一,它广泛应用于集成电路和半导体器件中的掩膜工艺(沉积二氧化硅薄膜,氮化硅薄膜、磷硅玻璃等)、钝化工艺(淀积氮化硅薄膜)和介质隔离工艺(生长多晶硅栅等)。在微波器件中,进一步结合外延技术,用硅烷热分解制得同质外延片和异质外延片,为微波器件提供了新型的基片。最近又发展了把硅烷作为砷化镓微波器件的离子注入源和激光器的介质,以及光纤通讯纤维的原料。
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关键词
高纯硅烷
提纯
低温精馏
分子筛吸附
制取方法
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职称材料
题名
高纯硅烷的制取
被引量:
1
1
作者
张俊福
机构
江苏无锡新苑公司特种气体厂
出处
《低温与特气》
CAS
1988年第4期17-23,共7页
文摘
一、前言 硅烷是发展电子工业所必需的特种气体之一,它广泛应用于集成电路和半导体器件中的掩膜工艺(沉积二氧化硅薄膜,氮化硅薄膜、磷硅玻璃等)、钝化工艺(淀积氮化硅薄膜)和介质隔离工艺(生长多晶硅栅等)。在微波器件中,进一步结合外延技术,用硅烷热分解制得同质外延片和异质外延片,为微波器件提供了新型的基片。最近又发展了把硅烷作为砷化镓微波器件的离子注入源和激光器的介质,以及光纤通讯纤维的原料。
关键词
高纯硅烷
提纯
低温精馏
分子筛吸附
制取方法
分类号
TQ117 [化学工程—无机化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高纯硅烷的制取
张俊福
《低温与特气》
CAS
1988
1
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