自支撑超快电子衍射薄膜制备方法的研究

具有自支撑能力的、具备晶格结构的超薄薄膜制作技术对超快电子衍射实验至关重要,薄膜的质量直接影响到后续实验的开展。文章重点介绍了超快电子衍射系统对薄膜样品的特殊要求,以及利用磁控溅射方法制作22.9nm薄膜的工艺过程。