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Ti-Si-Al-N纳米复合膜的组织与性能 被引量:3
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作者 李学梅 尤建飞 +2 位作者 董松涛 汪蕾 许俊华 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期144-148,共5页
采用磁控反应溅射法制备了一系列Al含量不同的Ti-Si-Al-N纳米复合薄膜,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及配套能量色散谱仪研究了Al含量对薄膜组织结构、硬度及高温抗氧化性的影响。结果表明:Ti-Si-Al-N薄膜点阵常数随Al含量的增加呈... 采用磁控反应溅射法制备了一系列Al含量不同的Ti-Si-Al-N纳米复合薄膜,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及配套能量色散谱仪研究了Al含量对薄膜组织结构、硬度及高温抗氧化性的影响。结果表明:Ti-Si-Al-N薄膜点阵常数随Al含量的增加呈下降趋势;Al含量增加到6.48at%时出现h-AlN相,此时薄膜具有最高的硬度,约33GPa;薄膜的抗氧化温度提高到约900℃,但Al含量较高易导致薄膜晶粒在高温下长大。 展开更多
关键词 Ti-Si-Al-N复合膜 显微硬度 高温抗氧化性 磁控反应溅射法
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