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靶电流对TiAlN/TiN复合膜组织及硬度的影响 被引量:5
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作者 卢龙 任明皓 +1 位作者 蒋涛 严铿 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2010年第22期120-122,共3页
采用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备TiAlN/TiN复合膜层,通过金相显微镜、扫描电镜和显微硬度仪研究靶电流对膜层表面形貌、沉积率及硬度的影响。结果表明:靶材电流对膜层组织和硬度有显著影响,电流越高膜层表面越不平整,显微硬度随靶... 采用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备TiAlN/TiN复合膜层,通过金相显微镜、扫描电镜和显微硬度仪研究靶电流对膜层表面形貌、沉积率及硬度的影响。结果表明:靶材电流对膜层组织和硬度有显著影响,电流越高膜层表面越不平整,显微硬度随靶材电流的升高先上升后降低。靶电流越高,膜层中Ti、Al原子的含量就越高。 展开更多
关键词 多弧离子镀 TIALN TIN 靶电流
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