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工艺条件及镀液杂质对瓦特镍镀层内应力的影响
被引量:
4
1
作者
胡维
王春霞
+1 位作者
周佑明
胡小萍
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2016年第4期26-28,35,共4页
为控制生产中瓦特镍镀层的内应力,利用条形阴极法测试了镀液的温度、pH及镀液中的杂质等对瓦特镍镀层内应力的影响。结果表明,镀镍液θ为50℃,pH为4.0时,镀层内应力最小;随着镀液中Cu^(2+)、Zn^(2+)金属杂质含量的增加,镀层内应力均增加...
为控制生产中瓦特镍镀层的内应力,利用条形阴极法测试了镀液的温度、pH及镀液中的杂质等对瓦特镍镀层内应力的影响。结果表明,镀镍液θ为50℃,pH为4.0时,镀层内应力最小;随着镀液中Cu^(2+)、Zn^(2+)金属杂质含量的增加,镀层内应力均增加;另外,在生产中为降低镀层的内应力,还需严格控制硫酸镍品质。
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关键词
电镀条件
镀液杂质
内应力
条形阴极法
镀镍层
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职称材料
题名
工艺条件及镀液杂质对瓦特镍镀层内应力的影响
被引量:
4
1
作者
胡维
王春霞
周佑明
胡小萍
机构
江西洪都航空工业集团有限责任公司热表处理厂
南昌
航空
大学材料科学与工程学院
金川
集团
金柯有色金属
有限
公司
出处
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2016年第4期26-28,35,共4页
基金
校企合作项目(2011-01-060)
文摘
为控制生产中瓦特镍镀层的内应力,利用条形阴极法测试了镀液的温度、pH及镀液中的杂质等对瓦特镍镀层内应力的影响。结果表明,镀镍液θ为50℃,pH为4.0时,镀层内应力最小;随着镀液中Cu^(2+)、Zn^(2+)金属杂质含量的增加,镀层内应力均增加;另外,在生产中为降低镀层的内应力,还需严格控制硫酸镍品质。
关键词
电镀条件
镀液杂质
内应力
条形阴极法
镀镍层
Keywords
plating conditions
impurities in plating solution
internal stress
strip cathode method
nickel coatings
分类号
TQ153.2 [化学工程—电化学工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
工艺条件及镀液杂质对瓦特镍镀层内应力的影响
胡维
王春霞
周佑明
胡小萍
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2016
4
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