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电沉积Ni-W合金镀层的X射线光电子能谱分析 被引量：3
1
作者 王宙 许光宇 +1 位作者 王金玉 杨德庄 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期32-33,共2页
采用X射线光电子能谱 (XPS)对电沉积Ni W合金镀层表面膜进行了分析。研究结果表明 ,Ni W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜 ,而钨的氧化作用远大于镍 ,Ni
关键词 电沉积 Ni-W合金镀层 X射线光电子能谱 镍钨合金
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