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高稳定Ni-Cr薄膜电阻的研究 被引量：7
1
作者 张丽娟 王芳 +2 位作者 孙承松 蔡震 陈桂梅 《微处理机》 2005年第4期7-8,共2页
本文主要介绍采用磁控溅射制备Ni-Cr薄膜的方法,并通过光刻、腐蚀,找到最佳的腐蚀条件,得到符合要求的N i-Cr薄膜,并把它应用到具体电路中,取得满意的效果。
关键词 磁控溅射 Ni-Cr薄膜
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