真空电弧源冷却结构对温度场的影响研究

真空电弧离子镀技术是工业界使用最为广泛的表面处理技术之一。在电弧离子镀实际应用过程中,所制备涂层的表面大颗粒仍然是困扰高端制造的一大难题,造成这一现象的根本原因是靶材表面局部过热产生的液滴飞溅。减少液滴产生的有效方法有很多,除降低放电功率密度、提高弧斑运动速度等热端控制技术之外,还包括加强靶材的冷却等。本文将新型冷却结构和弧斑运动引入弧源的数值模型,对弧源内部冷却水的流场和靶材表面的温度场进行模拟分析,研究了不同边界条件下弧源温度场的变化规律。本文的研究结果对真空镀膜机设计与工艺开发具有一定的指导作用。