全玻璃太阳能真空集热管的镀膜技术

本文介绍用磁控溅射镀膜机制取的铜／不锈钢——碳质膜层的特点及膜的制取工艺。

钛表面等离子冶金技术的研究

采用双层辉光放电产生的低温等离子体,在工业纯钛表面制备出表面钛合金,已经研究出了钛表面制备Ti-C合金和Ti-Zr合金等工艺方法。

脉冲磁过滤阴极弧沉积中基片台悬浮电位研究

通过测量脉冲磁过滤阴极弧等离子体沉积系统中的基片台悬浮电位,发现了弧源接地方式对基片台悬浮电位与等离子体电位影响很大。当阳极接地时基片台悬浮电位可达-60V,而弧源悬浮时却只有-5V。因此,要获得相似沉积条件的沉积薄膜,弧源接地方式不同,给基片施加偏压也应有所不同。

非平衡磁控溅射中调制磁场的作用

研究了调制磁场对于非平衡磁控溅射系统的作用 ,调制磁场可以使非平衡磁控溅射形成具有较高等离子体密度的等离子体束流 ,延伸到靶前 110 m m以上。在靶前 6 0～ 110 mm的位置上 ,收集电流密度高达 9～ 10 m A/ cm2 ,收集的电流密度比常规的磁控溅射方法高 9倍以上 ,在调制磁场作用下磁控溅射沉积铜薄膜的沉积速率可以增加到 14倍。

透明陶瓷保护膜

采用等离子体型反应离子镀膜技术在经离子掺金的试件上镀制SiO2 、SiO2 TiO2 透明陶瓷膜 ,并对该膜进行电子探针成分定量分析、薄膜X射线衍射分析、透明陶瓷保护膜硬度测试和磨损实验。

对引进磁控溅射镀膜生产线国产化技术改造的尝试

本文通过对引进国外大型磁控溅射镀膜玻璃生产线增设高真空抽气系统国产化技改工作及为开发反应膜对工艺溅射室分隔的技改工作，应用镀膜技术及原理成功地解决了一些技术问题，达到了提高产品质量。