创新、可靠,赢得市场——专访沈阳芯源公司总经理宗润福

沈阳芯源公司是中科院沈阳自动化所引进韩国技术创立的集成电路装备企业,主营产品是光刻工艺中的匀胶显影设备。芯源创立3年来取得了很大的发展,产品已成功销往中芯国际(SMIC)等用户。SEMICON CHINA 2006展会期间,我们在沈阳芯源公司的展位上专访了芯源公司总经理宗润福。

化学研磨抛光技术在IC制造设备中的应用

IC制造设备中的关键零部件对于其内外表面粗糙度有着很高的要求。传统的研磨抛光技术很难达到这一要求,从而直接影响了IC制造设备的国产化进程。化学研磨抛光技术作为一种新兴的材料表面处理技术,通过化学药液浸蚀方式,可以在短时间内完成对于各种复杂形状零件的内外表面研磨抛光,同时可以使工件表面满足较高的物理化学性能要求,非常适合于IC制造设备中高真空度、高洁净度要求的零部件生产加工。

封闭式匀胶显影设备的结构与技术优势

介绍了KINGSEMI封闭式晶片处理系统。它是满足深亚微米光刻工艺要求的Cluster结构。有占地小,采用空气过滤(MFC)及气流导向穴FFU雪等控制系统,对局部环境进行温湿度控制等优点;智能型化学品自动供应站精确地控制光刻胶、显影液等化学试剂的用量。片盒站机械手和工艺单元机器人联合传送晶片,准确、安全、快捷;备有容纳4个片架盒的片盒站,可同时处理两种不同尺寸的晶片。嵌入式控制软件,WindowsNT操作系统,构成良好的人机界面熏操作方便。

如何使机械运动部件控制最佳

仅就电子生产设备中输送类机器电机驱动机构的特性及较好的控制方法进行了分析讨论。主要比较了运动速度随时间变化的函数曲线为梯形和S形曲线时,其性能的优劣。