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氯氟烃化合物对臭氧层的影响——浅谈制冷剂R22替代R502的价值与技术
被引量:
1
1
作者
胡瑞卿
李晶
《环境技术》
2005年第2期24-26,共3页
从保护臭氧层,保护环境的角度出发,介绍了氯氟烃化合物对环境的影响。阐述了用制冷剂R22代替R502在低蒸发温度应用时需要解决的问题和如何解决。
关键词
臭氧层
低温应用
下载PDF
职称材料
题名
氯氟烃化合物对臭氧层的影响——浅谈制冷剂R22替代R502的价值与技术
被引量:
1
1
作者
胡瑞卿
李晶
机构
沈阳谷轮冷冻机有限公司
沈阳
东宇空调净化
有限公司
出处
《环境技术》
2005年第2期24-26,共3页
文摘
从保护臭氧层,保护环境的角度出发,介绍了氯氟烃化合物对环境的影响。阐述了用制冷剂R22代替R502在低蒸发温度应用时需要解决的问题和如何解决。
关键词
臭氧层
低温应用
Keywords
Ozone layer
Low temperature application
分类号
X515 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氯氟烃化合物对臭氧层的影响——浅谈制冷剂R22替代R502的价值与技术
胡瑞卿
李晶
《环境技术》
2005
1
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