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N阶电阻网络等效电阻的研究 被引量:33
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作者 谭志中 赵素英 《河北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2004年第2期149-154,共6页
对N阶电阻网络等效电阻进行了研究,应用虚拟电流法给出了这类问题的2个普适规律,并将所得结果与其他相关结果进行了比较.
关键词 N阶电阻网络 等效电阻 虚拟电流法 网络结构
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磁性材料磁特性的巴克豪森描述 被引量:2
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作者 赵素英 李凤舞 《河北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2004年第3期254-257,共4页
实验研究了磁性材料的零场冷却和加场冷却的磁化强度随温度的变化关系,以及不同温度下的磁滞回线;考虑了热涨落和自由能壁垒随温度的变化,改进了Preisach模型并对测量数据进行了拟合;数值模拟再现了测量结果的变化规律;对拟合得到的巴... 实验研究了磁性材料的零场冷却和加场冷却的磁化强度随温度的变化关系,以及不同温度下的磁滞回线;考虑了热涨落和自由能壁垒随温度的变化,改进了Preisach模型并对测量数据进行了拟合;数值模拟再现了测量结果的变化规律;对拟合得到的巴克豪森跳跃谱的有关参数进行了讨论. 展开更多
关键词 磁性材料 PREISACH模型 不可逆过程 磁滞回线 磁化强度 巴克豪森描述
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重掺杂硅中的氧沉淀
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作者 王庆禄 李敬林 赵素英 《河北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2003年第6期582-584,共3页
采用X射线双晶衍射法对重掺硼、重掺锑样品中的氧沉淀行为进行了研究,分析了热处理条件、掺杂剂种类对重掺硅中氧沉淀的影响.实验结果表明:由于氧沉淀诱发缺陷间的相互作用、氧沉淀的重溶以及氧的外扩散等原因,在长时间高温热处理时,晶... 采用X射线双晶衍射法对重掺硼、重掺锑样品中的氧沉淀行为进行了研究,分析了热处理条件、掺杂剂种类对重掺硅中氧沉淀的影响.实验结果表明:由于氧沉淀诱发缺陷间的相互作用、氧沉淀的重溶以及氧的外扩散等原因,在长时间高温热处理时,晶片表面完整性得到改善;重掺硼样品中的氧沉淀较重掺锑样品中的氧沉淀明显.实验中还观察到了氧沉淀重溶现象,进一步验证了理论分析结果. 展开更多
关键词 氧沉淀 重掺杂 X射线双晶衍射法 热处理 掺杂剂 硅外延片 半导体 IG工艺
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