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电弧离子镀技术中脉冲偏压对TiN薄膜的影响 被引量：3
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作者 赵喜梅 王光平 《河北师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2006年第5期555-558,共4页
用正交设计实验研究了电弧离子镀技术中采用脉冲偏压以后各种参数对沉积TiN薄膜性能的影响.研究表明,与直流偏压相比,直流叠加脉冲偏压能更好地细化颗粒,降低薄膜的表面粗糙度,提高沉积速率.对实验结果的方差分析显示:气氛和频率是降低... 用正交设计实验研究了电弧离子镀技术中采用脉冲偏压以后各种参数对沉积TiN薄膜性能的影响.研究表明,与直流偏压相比,直流叠加脉冲偏压能更好地细化颗粒,降低薄膜的表面粗糙度,提高沉积速率.对实验结果的方差分析显示:气氛和频率是降低表面粗糙度、提高沉积速率的主要因素. 展开更多
关键词 电弧离子镀 脉冲偏压 正交设计
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