环境气压对衍/折光学系统消二级光谱设计的影响

研究了环境气压对宽光谱、长焦距衍/折混合光学系统消二级光谱设计的影响。推导了环境压力变化时阿贝数变化对像面移动的影响。采用离焦法对系统进行校正,当环境气压变化小于0.5Pa时,系统的像面移动不超过0.8mm,研究了本系统使用的玻璃和衍射元件的综合气压特性,对解决其他光学系统气压的影响有一定的指导意义。