高纯三氯氢硅精制技术研究进展

三氯氢硅是西门子法生产多晶硅、集成电路用硅基电子气体和有机硅的重要原材料。随着光伏和集成电路的快速发展,制备高品质三氯氢硅已经成为一个研究热点,本文概述了精馏法、吸附法的机理及研究现状,重点介绍了反应精馏提纯三氯氢硅的研究现状和制备方法,并对高纯三氯氢硅提纯的前景进行了分析和展望。

分离三氯氢硅中甲基二氯硅烷的研究进展

三氯氢硅中的甲基二氯硅烷含量会严重影响多晶硅的品质,控制三氯氢硅中的甲基二氯硅烷含量对多晶硅的品质具有重要意义。重点介绍了三氯氢硅中甲基二氯硅烷的深度去除方法,包括常规精馏法、吸附法、反应精馏法和萃取精馏法。对比分析了上述方法的优缺点,其中吸附法、反应精馏法是分离甲基二氯硅烷行之有效的方法,萃取精馏法也是分离甲基二氯硅烷的重要研究方向,并对这些工艺的发展方向进行了展望。

六氯乙硅烷的制备工艺研究进展

重点介绍了半导体原料六氯乙硅烷的制备工艺,包括精馏法、吸附法、萃取法、光氯化法以及这些方法的组合。对比分析了上述方法的优缺点,展望了半导体原料六氯乙硅烷制备工艺的发展方向。此外,还简要介绍了发展六氯乙硅烷制备工艺对多晶硅厂商的重要意义。

高纯四氯化硅生产尾气的处理工艺

文章提出了一种利用亚硫酸钠和氢氧化钠混合溶液处理高纯四氯化硅生产中产生的含氯尾气的处理工艺,该工艺可深度去除高纯四氯化硅生产过程产生的多组分尾气的次氯酸盐成分。检测结果表明处理尾气产生的废水次氯酸根离子浓度去除率可达到98.7%,反应后的混合液不产生氯气。该工艺具有流程简单、可连续化操作、处理量大、适用性强等特点。完全可以满足高纯四氯化硅生产工艺中尾气处理的要求。

三氯氢硅精馏节能技术研究进展

概括了多晶硅生产中三氯氢硅节能精馏提纯技术的研究现状。介绍了多效精馏、热泵精馏、反应精馏、热耦合精馏、以及复合工艺在三氯氢硅精馏节能降耗方面的应用技术。并讨论了三氯氢硅精馏节能技术的发展趋势,指出采用多种精馏节能综合应用是我国多晶硅生产中三氯氢硅精馏提纯的方向。

三氯氢硅的安全生产

三氯氢硅是生产多晶硅的主要原料,而高纯度的三氯氢硅是重要的硅外延片用电子特气,是制造电子元器件精密加工从而推动信息化和工业化深度融合的关键基础原材料。但三氯氢硅在空气中极易燃烧,其生产、检测、充装、仓储以及运输过程中都存在较大的安全风险。介绍了三氯氢硅的物性特点,从工艺设计、物料输送、生产管控、储存以及充装等方面进行全方位安全分析,并采取有效的防范措施和合理的建议,使安全风险降低到可控范围内,提升三氯氢硅的安全生产水平,确保三氯氢硅可以安全高效地应用于光伏及半导体行业。

四氯化硅的安全生产

随着光伏与集成电路产业的高速发展,多晶硅的需求量日益增加。四氯化硅是采用西门子法生产多晶硅过程中的大量副产物,其工业用途广泛。在四氯化硅生产、储存、运输过程中,安全事故屡见不鲜,危及自然环境与人身安全。简单介绍了四氯化硅的物性,重点分析了其安全生产以及预防和应急处理措施,旨在提高四氯化硅生产企业的安全管控。

半导体用硅基特气乙硅烷的研究进展

乙硅烷是半导体制造中气相沉积薄膜的重要前驱体,随着光伏和集成电路的快速发展,制备高品质乙硅烷、实现进口替代已经成为一个研究热点,文章综述了乙硅烷的合成和纯化方法,并对乙硅烷的前景进行了分析和展望。