磁控溅射的金属光学薄膜特性研究

一、引言磁控溅射(MS)是一种较新的镀膜技术。由于溅射粒子动能大,薄膜牢固、致密;又由于磁控的作用,可获得较高的沉积速率;同时薄膜可在常温的基板上沉积,并在沉积过程中又不导致基板严重温升等许多优点。