磁控溅射法制备Al2O3复合高铝玻璃薄膜

采用磁控溅射法,创新性地以高铝玻璃和Al2O3为靶材,制备了Al2O3复合高铝玻璃薄膜。利用多种技术手段对薄膜的表面形貌、结构及成分进行分析和表征。结果表明,在Al2O3靶功率为120 W,其他条件不变的情况下,所制备的薄膜综合性能最优。此外,对薄膜的硬度及可见光透过率进行了测试,测试结果表明薄膜的纳米硬度可达18 GPa以上,同时保持了高于85%的良好可见光透过率。