斜入射下1/4波片补偿能力的优化

本文使用理论与实验相结合的方法研究了斜入射下液晶涂布型C-plate(Liquid crystal coated C-plate,LCC)对逆分散1/4波片(Reverse wavelength dispersion quarter wave plate,RQWP)补偿能力的优化特性。使用扩展琼斯矩阵比较了偏振光以任意角度通过RQWP、RQWP+LCC两种架构后出射光的椭圆率,探究了不同相位延迟RTH的LCC对出射光椭圆率的影响;测试了上述两种架构的圆偏光片在OLED(Organic light emitting-diode display)上的环境光反射率以及反射颜色色坐标。结果表明,LCC能够使45°斜入射时出射光的椭圆率提升10%以上,且在红、绿、蓝三色光条件下,调整LCC的RTH可使膜材架构的总折射率系数NZ趋近于0.5,获得最佳效果。使用RQWP+LCC架构的圆偏光片可使45°极角下OLED的环境光反射率降低3%。在工业生产中直接生产NZ=0.5的膜材拥有较高的技术难度,本文结论对开发NZ=0.5的膜材提供了新的可行方案。

煤矸石酸浸渣制备白炭黑的工艺研究

白炭黑是白色粉末状无定形硅酸和硅酸盐的总称,应用广泛。煤矸石酸浸渣是煤矸石经酸浸提取金属元素后的固体废物,主要成分是SiO_(2)及少量难溶于酸的金属氧化物。以煤矸石酸浸渣为原料制备白炭黑,可有效地实现资源化利用。本实验以煤矸石酸浸渣为原料,研究二氧化硅的溶出率以及白炭黑产率的最优工艺条件。结果表明,二氧化硅溶出率的最优工艺条件为:30%的NaOH溶液,温度190℃,反应时间4 h。白炭黑产率的最优工艺条件为:加入10mL蒸馏水(3∶1)稀释硅酸钠溶液,终点pH=7.0,水浴温度为85℃,硫酸浓度为10%。从实验结果可知,从煤矸石酸浸滤渣中提取硅元素并用于制备白炭黑是可行的。