氮化碳超硬防划伤镀膜玻璃的制备与研究

采用工业磁控溅射设备在玻璃基板上依次沉积Al_2O_3/SiO_2/CNx多层复合纳米薄膜,并研究测试了其透过率、耐划性及耐酸碱性。结果表明,通过引入线性阳极层离子源,控制并形成新的磁控溅射镀膜工艺,膜层莫氏硬度达到8级,具有优良的防刮效果;膜层存在△T>0.6%的微弱增透效果;经过酸/碱处理,透过率衰减|ΔT|<0.1%。

防蓝光纳米薄膜的磁控溅射制备技术及性能研究

以稀土材料钬靶,采用中频反应磁控溅射法设计并制备防蓝光多层纳米薄膜,并研究其光学、力学及耐候性等性能。研究表明:膜层对整个蓝光波段反射率达到40%左右,实现蓝光部分阻隔;600~780nm可见光波段透过率高达98%以上,反射率低于1%以下;表面铅笔硬度达到8H,3500次橡皮摩擦无变化;膜层耐候性能优良。

一体化触控技术用ITO薄膜的一次成膜工艺研究

通过对立式多箱体连续磁控溅射镀膜生产线的工艺方法和工艺装备的改进,改善现有OGS用ITO低温镀膜技术的各项缺陷,并使手机盖板ITO一次成膜工艺得以确定。研究表明:一次成膜工艺制品的热稳定性优良,在200℃下烘烤20min其方块电阻变化△R<4%;透过率均可达到91%左右,色差值△E<1.1,雾度值亦满足要求;一次成膜的生产工艺合格率达到了92~96%以上,可达量产要求。

高透钻面玻璃在线连续镀膜技术研究

使用立式连续直线镀膜生产线,采用真空磁控溅射技术在玻璃表面设计并镀制了Nb2O5/Si O2/Nb2O5/Si O2/CNx多层纳米硬质增透薄膜,并研究其透过率、硬度及理化性能。结果表明:通过引入线性阳极层离子源,控制并形成新的磁控溅射镀膜工艺,钻面玻璃产品的表面硬度达994.8 HV,是普通玻璃的2倍以上;在可见光透过率≥94%,具有一定的增透效果;经过酸/碱/溶剂/热处理后的透过率衰减ΔT<0.1%,理化性能优良。