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高衍射效率全息光栅的制作与复制工艺研究 被引量:7
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作者 臧甲鹏 王朝阳 《现代科学仪器》 1999年第5期46-48,共3页
本文根据正性光致抗蚀的感光显影特性,推导出了全息光栅沟槽深度公式,分析了影响光栅糟型结构的因素,建立了光栅沟槽模型。并根据论理论制作出了衍射效率高达65%的 2400线/毫米的全息平面反射光栅。本文还介绍了全息光栅复... 本文根据正性光致抗蚀的感光显影特性,推导出了全息光栅沟槽深度公式,分析了影响光栅糟型结构的因素,建立了光栅沟槽模型。并根据论理论制作出了衍射效率高达65%的 2400线/毫米的全息平面反射光栅。本文还介绍了全息光栅复制技术,解决了高质量光栅昂贵的生产成本和大批量生产问题。 展开更多
关键词 正性光致抗蚀剂 光栅沟槽 衍射效率 光栅复制
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